型号XLELD2000B-HS
技术规格
激光介质:半导体
激光波长:532nm
解析度:800dpi
半导体寿命:20000小时
最大雕刻幅面:椭圆170×140×100mm(更大雕刻范围可以定做,比如450*350*100mm)
平均雕刻速度:2000点/秒
典型内雕时间:约3分钟(以50*50*80mm尺寸的三维人像水晶为例,大概35万点)
输入电源:220V/ 110V, 50HZ
工作温度:18-32°c
整机功耗:
激光内雕机XLELD2000B-HS
发布日期 :2011-01-25 10:19访问:4次发布IP:115.238.80.155编号:699637
详细介绍
型号XLELD2000B-HS
技术规格 激光介质:半导体 激光波长:532nm 解析度:800dpi 半导体寿命:20000小时 最大雕刻幅面:椭圆170×140×100mm(更大雕刻范围可以定做,比如450*350*100mm) 平均雕刻速度:2000点/秒 典型内雕时间:约3分钟(以50*50*80mm尺寸的三维人像水晶为例,大概35万点) 输入电源:220V/ 110V, 50HZ 工作温度:18-32°c 整机功耗: 相关产品 主营产品:激光内雕机 相关分类 |
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